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更新于 6月5日
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黃光工藝高級工程師（滁州）

1.5-2萬·13薪
  • 滁州南譙區
  • 3-5年
  • 本科
  • 全職
  • 招1人

職位描述

光刻工藝曝光工藝MASK制造電子/半導體/集成電路
崗位職責:
1、曝光工藝開發與優化：
    • 主導FMM黃光制程中的曝光工藝開發、優化與量產導入，聚焦接觸式/接近式曝光技術。
    • 精通曝光參數（能量、焦距、間隙Gap、對準精度、照明均勻性等）對CD、CDU、OVL的影響機理，設計并執行DOE實驗進行精細化調優。
    • 優化掩膜版（Reticle/Mask）管理及使用策略，減少因掩膜版導致的曝光缺陷和偏差。
    • 探索并評估新型曝光技術或方案在FMM應用中的潛力。
    • 2、曝光設備工藝能力維護與提升：
    • 深入理解接觸式/接近式曝光機（如SUSS MA/BA系列、EVG或其他同類設備）的工作原理、構造及性能極限。
    • 負責曝光設備的工藝能力（Cp/Cpk）評估、監控（SPC）與持續提升。
    主導或深度參與曝光機的日常工藝維護、校準（如光強均勻性校準、焦距校準、對準系統校準）及穩定性驗證。
    • 與設備工程師緊密合作，診斷并解決曝光設備硬件故障或性能下降對工藝造成的影響，提出有效的改善措施和預防性維護（PM）優化建議。
3、曝光相關缺陷分析與良率提升：
    • 主導解決由曝光環節引起的各類缺陷和良率問題（如：CD偏差過大、CDU不良、套刻不良、曝光不良（Underexposure/Overexposure）、圖形畸變、沾污、牛頓環等）。
    • 運用8D、魚骨圖等工具進行根本原因分析（RCA），制定并落實CAPA。
4、工藝整合與跨部門協作：
    • 與涂膠（Coating）、顯影（Development）等前/后道工藝工程師緊密協作，確保整個黃光制程的匹配性與穩定性，特別關注膠厚均勻性、前烘/后烘條件對曝光效果的影響。
    • 與量測（Metrology）團隊合作，優化曝光關鍵參數的監控方案（如在線/離線CD量測、OVL量測）。
    • 為新設備選型、驗收提供工藝角度的專業評估和建議。
5、文檔、培訓與新技術：
    • 建立、維護和更新曝光工藝的SOP、控制計劃及技術文檔。
    • 對生產和技術人員進行曝光工藝原理、操作規范及問題處理的基礎培訓。
    • 跟蹤曝光技術領域的新發展（設備、材料、方法）。
6、完成領導交辦的其他相關工作事項。
任職要求 :
1、教育背景：
    • 本科及以上學歷，微電子、光學工程、物理、精密儀器、機械工程、材料科學與工程、自動化等相關專業優先。
2、工作經驗：
    • 5年及以上半導體、顯示面板（OLED FMM 經驗尤佳）、MEMS或高精度光刻行業的黃光/光刻工藝經驗。
    • 必須具備3年以上深度接觸/接近式曝光工藝開發、優化及設備維護的實戰經驗。 有FMM行業曝光經驗者高度優先。
    • 有主導或深度參與曝光相關良率提升項目的成功案例。
3、核心技能 (曝光重點)：
    • 精通曝光原理與技術： 深刻理解接觸式/接近式曝光的光學原理（柯勒照明、部分相干性、衍射效應等）、成像機理及其在FMM圖形化中的應用。
    • 曝光設備專家級能力：
      • 熟練掌握主流接觸式/接近式曝光機（如SUSS MA/BA, EVG等）的操作、日常工藝維護、校準（光強、焦距、對準）及故障排查。
      • 深入理解設備關鍵模塊（光源系統、對準系統、聚焦系統、掩膜臺/晶圓臺、控制系統）及其對工藝的影響。
      • 具備基礎的設備硬件知識，能與設備工程師有效溝通。
    • 參數優化與數據分析： 精通曝光參數（Energy, Focus, Gap等）優化方法；熟練運用DOE、SPC、FMEA等工具進行數據分析和工藝控制。
    • 精密量測與缺陷分析： 熟悉CD-SEM、OVL量測設備、顯微鏡等在曝光工藝評估中的應用；具備較強的缺陷識別和根源分析能力。
    • 掩膜版知識： 了解掩膜版制作、使用、維護及其對曝光質量的影響。
4、軟技能：
    • 出色的分析問題、解決問題能力和嚴謹的邏輯思維。
    • 優秀的溝通協調能力、團隊合作精神和責任心。
    • 積極主動，能承受壓力，具備良好的動手能力和現場快速響應能力。
5、語言能力：
    • 流利中文。
    • 能閱讀英文設備手冊、技術資料。
6、身體健康，無犯罪記錄。
優先考慮條件
  • OLED FMM行業曝光工藝經驗。
  • 擁有特定品牌曝光機（如SUSS, EVG）的深度操作、維護或工藝支持經驗。
  • 熟悉激光干涉儀等精密測量儀器在曝光機校準中的應用。
  • 了解光刻膠特性及其與曝光工藝的交互作用。
  • 有曝光設備供應商技術支持或設備工程師背景者。
  • 熟悉AutoCAD或相關繪圖軟件用于簡單版圖查看或問題分析。

工作地點

南譙區拓維光電材料(滁州)有限公司

職位發布者

張雨/人事

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成都拓維高科光電科技有限公司
成都拓維成立于2017年，翰博高新全資子公司，為客戶提供OLED Mask服務，實現國內現地配套，填補國內產業鏈空白。一期清洗業務提供精密再生服務，一期CMM制造業務提供CMM制造服務，二期規劃FMM制造業務和CMM擴產，以及G8.6代線OLED用金屬掩膜研發制造和清洗業務。OLED Mask精密再生是首個翰博集團戰略轉型半導體顯示材料的項目。翰博?新為深交所創業板上市企業，自2009年誕生便始終專注于半導體顯示科技，致力于為半導體顯示行業提供系統解決方案，是一家集顯示設計、光學開發、半導體顯示材料、智能制造、供應鏈整合于一身的系統方案供應商；擁有合肥、滁州、重慶、成都、廣州五大制造基地；翰博高新歷經數年穩健發展，擁有導光板和RTP等重要技術工藝，現已研發設計出光模組、偏光片、光學膜材等多款產品，被廣泛應用于通訊、汽車、影音、電腦等領域的半導體顯示終端，擁有強大的自主技術研發能力，為人們的工作與生活帶來完美的視覺享受。拓維光電材料（滁州）有限公司是成都拓維全資子公司，成立于2022年5月，是一家專注于OLED顯示關鍵原材FMM（精密金屬掩膜版）研發與制造并提供Mask解決方案的高新科技企業。公司以成為行業首選合作伙伴為愿景，以產業報國、科技創新為使命，致力于打破國外技術壟斷，實現FMM國產化，成為行業領先者。
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