1.負責鍍膜(APCVD/LPCVD/CVD/ALD/PECVD)工藝開發及優化,提升CVD制程能力和品質.
2.分析處理與薄膜相關的工藝異常,器件失效,成品率提升等
3.負責對應CVD新機臺,新工藝、新技術和新產品驗證,為項目提供技術支持并進行DOE評估驗證.
4. 面向未來研究半導體薄膜新材料,納米鍍膜新工藝,低維材料性能新表征
任職要求:
1.碩士或博士學歷,無機材料鍍膜,納米制造技術, 物理,固體電子學,熱處理,晶體結晶與力學,低溫等離子體,微流體,射頻電源,傳熱學等專業方向優先
2.有3年以上Array CVD工作經驗,具備PECVD、SiN、SiO等相關工藝開發經驗;
3.熟悉AKT CVD設備和工藝原理,能處理設備和工藝異常,能獨立分析調整膜質并達到器件要求, 會使用office工具和minitab進行數據分析,撰寫分析總結報告;誠實嚴謹,能吃苦耐勞,具有極強的敬業精神和責任心
4.具有高校/研究所完整縱向課題經驗者可放寬學歷要求; 有半導體行業,面板企業 FAB 經驗者可放寬學歷要求
5.熟悉CVD(APCVD, PECVD TFE)工藝開發流程,具備良好的工藝recipe開發能力,能夠針對性地編寫沉積recipe;特別是熟悉 SiON, SiO2 以及 SiNx 的工藝條件,具備獨立開發相應 recipe 的能力更優先考慮,可以放寬條件。
流利的英文讀寫,交流。